报告题目：工业共聚焦显微成像技术及测量应用

报 告 人：梁川  工程师

报告时间：5月15日10:00

报告地点：威尼斯欢乐娱人城v3676A区205室

报告内容：

以材料及半导体科学为代表的表面形貌观测需求中，共聚焦显微镜具备其独特的优势。待观察样品进行简易甚至无需处理即可获得亚微米分辨率平面图像及最高纳米尺度的三维测量数据，实现高分辨率的2D/3D图像观测及测量。

报告讲座从共聚焦光学结构及成像原理展开，详细阐述成像及测量特征，报告内容辅以大量案例，展现全面的成像及测量能力。

报告人简介：

梁川，2016年加入徕卡显微系统（上海）贸易有限公司工业部，任工程师。从事工业共聚焦相关工作十余年，熟知工业共聚焦测试技术，对金属、非金属材料表面成像及半导体工艺表面测试具有丰富经验。

欢迎感兴趣的老师和同学参加！